Die CF-Lecksuchnut bietet eine direkte Möglichkeit der Prüfgaszuführung zur Kupferdichtung, die zwischen Edelstahl-Schneidkanten der Flansche verpresst wird (Bild: Pfeiffer Vacuum)
27.05.2021 Lecks, die eigentlich keine sind
Virtuelle Lecks – Entstehung, Detektion und Vermeidung
Bei Prozessanlagen, die unter Vakuum arbeiten, gibt es immer wieder virtuelle Lecks. Konstruktions- und produktionsseitig kann man einiges tun, um dieses Problem zu minimieren.
Unter einem virtuellen Leck versteht man ein scheinbares, nicht wirklich vorhandenes Leck. Es wird durch die langsame Abgabe von Gasen aus abgeschlossenen Volumina innerhalb des Systems hervorgerufen. Dabei ist die Langsamkeit der Gasabgabe eine wichtige Eigenschaft, die ein virtuelles Leck kennzeichnet.
Virtuelle Lecks verlangsamen als Gasquellen einen Abpumpprozess oder die Zeit zum Erreichen des gewünschten Enddrucks deutlich. Die Gasflussrate aus dem virtuellen Leck wird bestimmt durch die Abmessungen des Leckkanals zwischen dem eingeschlossenen Gasvorrat und dem freien Volumen des Vakuumbehälters. Ist der Kanal sehr klein, werden die eingeschlossenen Gase wegen des hohen Strömungswiderstands des Kanals sehr langsam abgegeben und die Abpumpzeit des Behälters kann drastisch verlängert werden. Wird das Vakuumsystem wiederholt belüftet, kann sich der Gasvorrat immer wieder auffüllen. Damit tritt dieser Effekt bei jedem Anpumpvorgang erneut auf. Eine Pumpe hat dabei keinen Einfluss auf die Geschwindigkeit der Gasabgabe.
